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Product Center 熱門(mén)搜索:
    
    
      TA100超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)
    
      TPL300穩(wěn)態(tài)/瞬態(tài)熒光光譜系統(tǒng)
    
      LFP100閃光光解系統(tǒng)
    
      THZ100超快時(shí)間分辨太赫茲光譜系統(tǒng)
    
    
    
      深紫外熒光系統(tǒng)
    
      FLIM300多功能激光掃描共聚焦熒光成像系統(tǒng)
    
      UPSI100超快泵浦探測(cè)陰影成像系統(tǒng)
    
      UF100超快熒光光譜系統(tǒng)
    
    
    
      碳化硅襯底位錯(cuò)缺陷光學(xué)無(wú)損檢測(cè)系統(tǒng)
    
      大能量DPSS Nd:YAG納秒脈沖激光器
    
      高能高頻DPSS連續(xù)可調(diào)諧納秒激光器
    
      高速探測(cè)器
    
    
    
      SHG100非線(xiàn)性SHG測(cè)試系統(tǒng)
    
      Z掃描測(cè)試系統(tǒng)-ZTS100
    
      MICRO LED晶圓級(jí)綜合檢測(cè)系統(tǒng)
    
      SiC晶圓質(zhì)量成像檢測(cè)系統(tǒng)
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當(dāng)前位置:首頁(yè) 產(chǎn)品中心
產(chǎn)品中心 非線(xiàn)性光學(xué)系列
非線(xiàn)性光學(xué)系列 Z掃描測(cè)試系統(tǒng)
Z掃描測(cè)試系統(tǒng) Z掃描測(cè)試系統(tǒng)-ZTS100
Z掃描測(cè)試系統(tǒng)-ZTS100
 
                    
Z掃描測(cè)試系統(tǒng)-ZTS100
 產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                  product
產(chǎn)品分類(lèi)Z掃描測(cè)試系統(tǒng)-ZTS100主要技術(shù)指標(biāo):
精密光學(xué)位移臺(tái)
| 速度 | 30mm/s | 
| 最小分辨率 | 0.1μm | 
| 重復(fù)定位精度 | <2μm | 
| 功率探測(cè)器 | |
| 測(cè)試波長(zhǎng) | 350-1700nm | 
| 功率檢測(cè)范圍 | 50nW-40mW | 
| 抖動(dòng)消除 | 參比雙通道信號(hào)同時(shí)采集 | 
Z掃描測(cè)試系統(tǒng)-ZTS100應(yīng)用實(shí)例:
實(shí)驗(yàn)條件
| 樣品名稱(chēng) | 單晶硅 | 
| 激發(fā)光波長(zhǎng) | 1030nm | 
| 探測(cè)光波長(zhǎng) | 1030nm | 

大連創(chuàng)銳光譜科技有限公司基于自主創(chuàng)新的時(shí)間分辨光譜技術(shù),致力于推動(dòng)光譜技術(shù)在科研和工業(yè)領(lǐng)域的深入應(yīng)用。在科研儀器領(lǐng)域,創(chuàng)銳光譜由一線(xiàn)專(zhuān)家?guī)ш?duì),是目前國(guó)內(nèi)極少具備瞬態(tài)光譜獨(dú)立研發(fā)-生產(chǎn)-應(yīng)用完整能力體系的團(tuán)隊(duì)。創(chuàng)銳光譜以時(shí)間分辨光譜核心技術(shù),超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)為核心產(chǎn)品,打破進(jìn)口壟斷格局。主要產(chǎn)品包括瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)、共聚焦熒光成像系統(tǒng)、DPSS納秒激光器及高速探測(cè)器。在工業(yè)半導(dǎo)體檢測(cè)領(lǐng)域,公司以光譜技術(shù)創(chuàng)新為核心立足點(diǎn),已迅速完成碳化硅襯底、外延、氮化鎵、鈣鈦礦電池等多領(lǐng)域布局。